“不管这些了，我有两个方法来提高DUV光刻机的制程，再说一遍，这两个方法先期不能申请专利，而且要超级保密。光刻机的演进过程就是光源改进和工艺创新。第一个方法就是缩短波长。但193nm波长可以说是极限了，157nm波长就是个坑。

那怎么缩短波长呢，答案就是改变光的传输介质，现在光刻胶和曝光镜头之间的介质是空气，我们需要把空气换成液体。这种方式称为浸没式或者叫湿式。这种方法早已有人提出来了，但他们使用的是油，缺陷很多，无法推广，这个方法就被废弃了。

但这个液体换成水的话，那所有大的问题就不存在了，剩下的小问题都是可接受可改进的。这个方法能很容易地击穿157nm的限制。这里呢，咱们不要暴露这种方法，反而要挖坑，要引导他们相信咱们已经攻克了157nm的光刻机。”

“这怎么可能，光刻机研发出来就是要卖的啊，必须接受市场检验，人家一看就露馅了。”

“这么死心眼呢你，咱们不卖光刻机，咱们可以做代工工厂啊，让他们设计芯片，咱们代理加工。就算咱们的技术底子差，成本高，但咱们人力成本低啊。只要代工个一两年，技术越来越成熟。通过代工合同，可以要求合作方同步建立晶圆厂，提供次一级制程的光刻机，就说要把低端芯片业务转移过去，才能加大高端芯片的产量。咱们有了更先进的光刻机技术，那些低一档次的光刻机就不会禁运了。等拿到了更多的光刻机就能通过浸没式工艺改进来达到下一代的制程，半导体行业的囚笼就被彻底打破了。”

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