设计EDA软件的关键在于生产参数，这可不是说有就有的，需要多年实际生产的经验才能获得。

目前全世界能够拿出优良的EDA软件的厂商只有寥寥数家，包括灯塔国的英特尔、仙童，东瀛的NEC、日立、东芝等。

这些厂商无一例外都是积累了多年的实际生产经验，才能累积出足够的生产数据，从而根据生产数据设计出EDA软件。

对于华芯来说，目前赤手空拳，芯片产业刚刚起步，没有生产参数，没有EDA软件，所以芯片的“设计”环节就是无从做起的。

第二个环节：制造。

这个环节包括一系列的工艺步骤，目的就是将硅片加工成芯片。

这个生产流程倒是比较简单，不像搞存储芯片一样要那么复杂而且精密的流水线。

但是这个环节有一个核心设备：光刻机。

日后灯塔国搞卡脖子，主要就是两条，一条是上面说的EDA软件，你没有多年做下来的数据积累，就没有EDA软件，不给你用EDA软件，你就搞不了芯片设计。

第二条更狠，就是光刻机。

准确来说，是“极紫外光刻机”。

极紫外光刻机被誉为“现代工业皇冠上的明珠”，这套机器的工艺逼近物理学、材料学以及精密制造的极限，芯片制程一旦推进到10纳米，还要往下，就得用极紫外光刻机才能实现。

不过在目前1986年这个时代，光刻机还不能成为卡脖子的武器，因为这年代的芯片制程还停留在250纳米左右，并不需要“极紫外光刻机”这么精密的技术仪器。

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